|
SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2024 |
| Actividades |  |
Descripción | |
Audiencia | |
Periodicidad |
|
|
|
||||
 Electrónica, diseño y componentes
Optoelectrónica
Micro y nanotecnologías
Ciencias de la Ingeniería - Investigación y desarrollo
|
|
Exposición y Conferencia de Tecnologías del Fotograbado. La tecnología SPIE Photomask + litografía ultravioleta extrema reúne a compradores y proveedores líderes de componentes, software y equipos de fabricación para la industria de las máscaras |
|
Profesional | |
anual |
| Próximas fechas | ||||||||||
|
||||||||||
| ¡Atención! Todas las fechas están sujetas a cambios. Póngase en contacto con el organizador antes de emprender cualquier viaje. |
| Localización(es) |
|
+1 (831) 646-3770
+1 (831) 646-3777| Organizador(es) |
|
|||
| Más información |
 http://spie.org/conferences-and-exhibitions spie@spie.org melissaf@spie.org (solo expositores) |