SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2024

SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2024 in english

Description

Salon et conférence des technologies de photogravure. SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography réunit les acheteurs et les principaux fournisseurs de composants, logiciels et équipements de fabrication pour l'industrie des masques

Secteurs d'activité

Électronique Optoélectronique Micro et Nanotechnologies Sciences de l'ingénieur - Recherche et développement

Public

Professionnel

Périodicité

annuel

Date	Ville	Lieu
du 29 sept. au 04 oct. 2024	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center
en sept. 2025 (?)	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center

Prenez garde ! Toutes les dates sont sujettes à changement. Prenez contact avec l'organisateur avant d'entreprendre tout déplacement.

Lieu(x)

Lieu pour SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY: Monterey Conference Center (Monterey, CA)

Monterey Conference Center
One Portola Plaza
Monterey, CA 93940
USA

+1 (831) 646-3770

+1 (831) 646-3777

Site Web E-mail

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Organisateur(s)

Tous les événements de l'organisateur de SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

SPIE (International Society for Optical Engineering)
PO Box 10
1000 20th St.
Bellingham
WA 98225-6705
USA

+1 (360) 676-3290

+1 (360) 647-1445

Site Web E-mail

Infos de contact pour SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

Site Web officiel

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(Dernière mise à jour: 30 nov. 2023)