PHOTOMASK JAPAN 2026

PHOTOMASK JAPAN 2026 in english

Beschreibung

Internationales Symposium zu Fotomasken und NGL-Masken in Japan. Das Ziel von Photomask Japan ist es, Ingenieure und Forscher aus Japan, den USA und der ganzen Welt auf dem Gebiet der Fotomasken, NGL-Masken und verwandter Technologien zusammenzubringen

Gebiet

Elektronik, Design und Komponenten Industrielle Automatisierung

Publikum

Fachpublikum

Turnus

jährlich

Termine	Stadt	Platz
vom 08. bis 10. April 2026	Yokohama (Japan)	Pacifico Yokohama
April 2027 (?)	Yokohama (Japan)	Pacifico Yokohama

Achtung ! Änderungen vorbehalten. Für mehr Informationen, bitte vor der Reiseplanung Kontakt mit den Veranstalter.

Veranstaltungsort

Ort der Veranstaltung PHOTOMASK JAPAN: Pacifico Yokohama (Yokohama)

Pacifico Yokohama
1-1-1, Minato Mirai
Nishi-ku
Yokohama
Japan

+81 45 221 2155

Webseite E-mail

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Veranstalter

Alle Messen/Events von SPIE (International Society for Optical Engineering)

SPIE (International Society for Optical Engineering)
PO Box 10
1000 20th St.
Bellingham
WA 98225-6705
USA

+1 (360) 676-3290

+1 (360) 647-1445

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(Letzte Aktualisierung: 14 . Jan. 2026)