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SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2020

SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2020 in english

Description

Salon et conférence des technologies de photogravure. SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography réunit les acheteurs et les principaux fournisseurs de composants, logiciels et équipements de fabrication pour l'industrie des masques

Secteurs d'activité

Electronique Optoélectronique Micro et Nano Technologies Sciences de l'ingénieur - Recherche et développement

Public

Professionnel

Périodicité

annuel
Date Ville Lieu
du 20 au 24 sept. 2020 Monterey, CA (USA) Monterey Conference Center
Prenez garde ! Toutes les dates sont sujettes à changement. Prenez contact avec l'organisateur avant d'entreprendre tout déplacement

Lieu(x)

Lieu pour SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY: Monterey Conference Center (Monterey, CA)
Monterey Conference Center
Monterey, CA 93940>One Portola Plaza
Monterey, CA 93940
USA
+1 (831) 646-3770
+1 (831) 646-3777
Site Web E-mail

Organisateur(s)

Tous les événements de l'organisateur de SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY
SPIE (International Society for Optical Engineering)
1000 20th St.
Bellingham
WA 98225-6705>PO Box 10
1000 20th St.
Bellingham
WA 98225-6705
USA
+1 (360) 676-3290
+1 (360) 647-1445
Site Web E-mail

Infos de contact pour SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

Site Web officiel
E-mail de l'événement E-mail pour les exposants

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(Dernière mise à jour: 13 oct. 2019)