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SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2020

SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2020 in english

Beschreibung

Ausstellung und Konferenz von Photogravure Technologies. SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography vereint Einkäufer und führende Anbieter von Komponenten, Software und Fertigungsanlagen für die Maskenindustrie

Gebiet

Elektronik, Design und Komponenten Optoelektronik Micro & Nano Technologien Ingenieurwissenschaften - Forschung & Entwicklung

Publikum

Fachpublikum

Turnus

jährlich
Termine Stadt Platz
vom 20. bis 24. Sept. 2020 Monterey, CA (USA) Monterey Conference Center
Achtung ! Änderungen vorbehalten. Für mehr Informationen, bitte vor der Reiseplanung Kontakt mit den Veranstalter.

Veranstaltungsort

Ort der Veranstaltung SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY: Monterey Conference Center (Monterey, CA)
Monterey Conference Center
Monterey, CA 93940>One Portola Plaza
Monterey, CA 93940
USA
+1 (831) 646-3770
+1 (831) 646-3777
Webseite E-mail

Veranstalter

Alle Messen/Events von SPIE (International Society for Optical Engineering)
SPIE (International Society for Optical Engineering)
1000 20th St.
Bellingham
WA 98225-6705>PO Box 10
1000 20th St.
Bellingham
WA 98225-6705
USA
+1 (360) 676-3290
+1 (360) 647-1445
Webseite E-mail

Kontaktdaten für SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

Offizielle Webseite
E-Mail der Veranstaltung Veranstaltungs-E-Mail nur für Aussteller

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(Letzte Aktualisierung: 13 . Okt. 2019)