SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2024

SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2024 in english

Beschreibung

Ausstellung und Konferenz von Photogravure Technologies. SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography vereint Einkäufer und führende Anbieter von Komponenten, Software und Fertigungsanlagen für die Maskenindustrie

Gebiet

Elektronik, Design und Komponenten Optoelektronik Mikro- und Nanotechnologien Ingenieurwissenschaften - Forschung & Entwicklung

Publikum

Fachpublikum

Turnus

jährlich

Termine	Stadt	Platz
vom 29. Sept. bis 04. Okt. 2024	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center
Sept. 2025 (?)	Monterey, CA (USA)	Monterey Conference Center

Achtung ! Änderungen vorbehalten. Für mehr Informationen, bitte vor der Reiseplanung Kontakt mit den Veranstalter.

Veranstaltungsort

Ort der Veranstaltung SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY: Monterey Conference Center (Monterey, CA)

Monterey Conference Center
One Portola Plaza
Monterey, CA 93940
USA

+1 (831) 646-3770

+1 (831) 646-3777

Webseite E-mail

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Veranstalter

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SPIE (International Society for Optical Engineering)
PO Box 10
1000 20th St.
Bellingham
WA 98225-6705
USA

+1 (360) 676-3290

+1 (360) 647-1445

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(Letzte Aktualisierung: 30 . Nov. 2023)